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        • Samcoサムコ株式会社 Samcoサムコ株式会社 主要经营设备 化学气相沉积 原子层沉积 等离子体CVD 液态CVD® 刻蚀 ICP刻蚀 深硅蚀刻 反应离子刻蚀 表面处理 等离子清洗 紫外线臭氧清洗 Samcoサムコ株式会社 原子层沉积(ALD) 发现更多 原子层沉积(ALD)是一种薄膜生长技术,能够为电子器件(电源和射频)沉积无针孔和均匀的绝缘体薄膜。ALD在高长宽比沟槽和通孔结构上
          发布时间:2022-06-10 14:17 点击次数:109 次

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