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苏州代理 UNILAM优尼光 研究所用散射UV曝光&照射装置 特征：可以调整UV均匀度和照射距离而且适用冷却既能可保持常温。 应用范围：液晶及光培养物质实验用，高分子膜散射曝光用（线幅30μm级以上） 苏州代理 UNILAM优尼光 研究所用散射UV曝光&照射装置
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特征：带有高功率UV照度和优良的均匀度的6时代mobileLCD用扫描曝光机 适用中压UV还有把光掩膜和吸附曝光薄膜的状态下通过扫描散射曝光确保高品质的反转曝光特性。 苏州代理 UNILAM优尼光 光掩膜用扫描UV反转曝光系统苏州代理 UNILAM优尼光 光掩膜用扫描UV反转曝光系统
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特征：宽度1400mm以上的薄膜上做奈米压印或以微细金型成型模具后，通过UV假固化及UV本固化还有确保高生产效益和高均匀度（正负5%一下），适用在高品质显示光学薄膜及所属领域制造。有除去氮气（N2）的技能。 显示器用薄膜(透镜膜、棱镜膜。曝光膜）&再归反射薄膜的UV照射或UV固化 苏州代理 UNILAM优尼光 显示光学薄膜 & 再归反射用UV固化装置 苏州代理 UNILAM优尼光 显示光学薄膜 & 再归反射用UV固化装置
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为的强化LCD BLU薄膜用的棱镜、微tou镜膜的信赖性。高生产性及高UV均匀度可以适用在光谱1400mm以上的PET薄膜 高品质的显示薄膜（透镜膜、棱镜膜），PET&TAC薄膜，ITO薄膜的背涂层，硬质涂层，防眩光涂层。苏州代理 UNILAM优尼光 显示薄膜背涂层用UV固化装置苏州代理 UNILAM优尼光 显示薄膜背涂层用UV固化装置苏州代理 UNILAM优尼光 显示薄膜背涂层用UV固化装置
