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        • 主要特长 能够进行节拍时间约20秒(标准规格机,对位容许值设定为0.5μm时。不含曝光时间。)的高速曝光处理。 利用直读式间隙传感器与独自的控制系统,能够高速度和高精度地设定掩膜与基板间的近接间隙 。 可配置严格控制处理部位温度环境的温控机房。为了防止因热而引起的基板伸缩,还可选用基板台温度调控系统。 可选择配置基板台温度控制系统及掩膜冷却系统,以防止掩膜及玻璃基板因温度差而引起的伸缩。(
        • 主要特长 能够进行节拍时间约20秒(标准规格机,对位容许值设定为0.5μm时。不含曝光时间。)的高速曝光处理。 利用直读式间隙传感器与独自的控制系统,能够高速度和高精度地设定掩膜与基板间的近接间隙 。 可配置严格控制处理部位温度环境的温控机房。为了防止因热而引起的基板伸缩,还可选用基板台温度调控系统。 可选择配置基板台温度控制系统及掩膜冷却系统,以防止掩膜及玻璃基板因温度差而引起的伸缩。(
        • 主要特长 能够进行节拍时间约20秒(标准规格机,对位容许值设定为0.5μm时。不含曝光时间。)的高速曝光处理。 利用直读式间隙传感器与独自的控制系统,能够高速度和高精度地设定掩膜与基板间的近接间隙 。 可配置严格控制处理部位温度环境的温控机房。为了防止因热而引起的基板伸缩,还可选用基板台温度调控系统。 可选择配置基板台温度控制系统及掩膜冷却系统,以防止掩膜及玻璃基板因温度差而引起的伸缩。(选购项) 能够装载存放5张掩膜的掩膜存放库
        • 非常适用于实验・研发之用途。 紧凑型设计(600×600mm),可在桌面上安装使用。 搭载UV LED爆光灯房标准(有效曝光范围φ4″)。 接触式曝光模式(可支持其他的曝光模式,为选购项)。 完全手动操作,价格公道合理。
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