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产品名称：UV照射装置 ORC欧阿希 HMW-615N-4
产品厂商：ORC欧阿希
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简单介绍：

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详情介绍：

	半导体制造プロセス、液晶基板制造プロセス等微细なパターンを形成する工程において、基板の表面に残る有机物に、UVを照射して有机物汚染を非接触で除去する装置です。基板イダメージを与えずに表面の洗浄と改质が出来ます。		HMW-615N
		VUM-3073F

◆ 特　徴

1．	基板にダメージが少なく、有机物を分解する能力の高い独自の低圧ＵＶランプを搭载しています。
2．	基板を揺动するモードを利用すると、基板にUV光量が均等に照射されます。
3．	基板はあまり加热されません。
4．	オゾンをカットする照射方式も、窒素ガスをパージする照射方式も适用できます。

◆ 仕　様

型式	HMW-615N-3	HMW-615N-4	VUM-3073F
使用ランプ	低圧ＵＶランプ VUV-080/A-3.6U･5灯	低圧ＵＶランプ VUV-100/A-5.3U･7灯	低圧ＵＶランプ VUV-040/A-2.2U･4灯
照射距离	25mm	25mm	15mm
照射面积	300^W X 300^D	400^W X 400^D	200^W X 200^D
照射时间	0～10min(可変)		0～99min59sec(可変)
排気ｵｿﾞﾝ除去	オゾン分解用フィルター使用
外形寸法	750^W X 700^DX 1,435^H 180kg		580^W X 500^DX 240^H 25kg

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