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产品名称：OTSUKA大冢- 浓厚系颗粒直径系统FPAR-1000
产品厂商：OTSUKA大冢
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简单介绍：

FPAR-1000 OTSUKA大冢- 浓厚系颗粒直径系统从稀薄系到浓厚系，在广泛的浓度区域中的粒子直径测量 *适合分析胶体分散液和拉拉力的分散状态。 OTSUKA大冢- 浓厚系颗粒直径系统FPAR-1000OTSUKA大冢- 浓厚系颗粒直径系统FPAR-1000OTSUKA大冢- 浓厚系颗粒直径系统FPAR-1000

详情介绍：

OTSUKA大冢- 光纤光学动态光散射光度计FDLS-3000
OTSUKA大冢- 浓厚系颗粒直径系统

从稀薄系到浓厚系，在广泛的浓度区域中的粒子直径测量
*适合分析胶体分散液和拉拉力的分散状态。
特长：
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从稀薄的溶液到浓厚溶液，可以测量在广泛的浓度范围内的高速、高精度的粒子径、粒子直径分布（粒径、粒径分布）。

在研究·质量管理的广泛用途上使用微粒子特有的分散、凝集过程的功能等。

根据新开发的测量程序，对应于浓厚溶液中高精度的粒子直径测量。

将样本温调、超声波洗净等所有必要的功能全部内置的A3尺寸的紧凑设计。

测定项目

粒子径
	3 nm ～ 5000nm
	1 nm ～ 5000nm （高感度仕様）
	キュムラント平均粒子径ヒストグラム平均粒子径（D₅₀）（高感度仕様）
分布解析
	CONTIN法 MARQUARDT法 NNLS法 CUMULANT法

対応浓度范囲（标准ラテックス 204nm の场合）
	0.001 ～ 10 %
	浓厚系プローブ（标准） 0.01 ～ 10 %
	希薄系プローブ（オプション） 0.001 ～ 0.01 %

応用分野

色材工业における顔料・インクの分散・凝集制御・粒子径管理。
セラミックススラリーの分散・凝集制御、分散剤効果
半导体分野の研磨粒子の粒子径管理
高分子・化学工业におけるエマルジョン、ラテックスの分散凝集制御、粒子径管理
医薬品・食品エマルジョンの分散・凝集制御、リポソームなどの粒子径管理
光触媒（酸化チタン）粒子の分散状态管理

仕　様

光源	半导体レーザー
検出器	光电子増倍管（フォトンカウンティング方式）
サンプル温调范囲	10 ～ 70℃
温调方式	电子式冷却素子、ヒーター
プローブ洗浄方式	超音波洗浄
电源	AC100V ± 10%50/60Hz 300VA
寸法（WDH）	320（W)×507（D)×284（H)
重量	约 22 kg

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