<legend id="h4sia"></legend><samp id="h4sia"></samp>
<sup id="h4sia"></sup>
<mark id="h4sia"><del id="h4sia"></del></mark>

<p id="h4sia"><td id="h4sia"></td></p><track id="h4sia"></track>

<delect id="h4sia"></delect>
  • <input id="h4sia"><address id="h4sia"></address>

    <menuitem id="h4sia"></menuitem>

    1. <blockquote id="h4sia"><rt id="h4sia"></rt></blockquote>
      <wbr id="h4sia">
    2. <meter id="h4sia"></meter>

      <th id="h4sia"><center id="h4sia"><delect id="h4sia"></delect></center></th>
    3. <dl id="h4sia"></dl>
    4. <rp id="h4sia"><option id="h4sia"></option></rp>

        产品中心
        产品详情
        • 产品名称:Otsuka大塚膜厚计FE-300薄膜类型

        • 产品厂商:Otsuka大塚
        • 产品价格:0
        • 折扣价格:0
        • 产品文档:
        你添加了1件商品 查看购物车
        简单介绍:
        Otsuka大塚膜厚计FE-300薄膜类型Otsuka大塚膜厚计FE-300薄膜类型Otsuka大塚膜厚计FE-300薄膜类型
        详情介绍:

        膜厚计FE-300

        它是一种紧凑且低成本的膜厚计,可以通过高精度光学干涉法轻松测量膜厚。
        我们采用了一体式外壳,将必要的设备容纳在主体中,从而实现了稳定的数据采集。
        通过以低廉的价格获得**反射率,可以分析光学常数。






        • 产品资讯
        • 原理
        • 规范
        • 设备配置

        产品资讯

        特殊长度
        • 支持从薄膜到厚膜的各种膜厚
        • 使用反射光谱进行膜厚分析
        • 紧凑且价格低廉,实现了非接触,无破坏的高精度测量
        • 简单的条件设置和测量操作!任何人都可以轻松测量薄膜厚度
        • 使用峰谷法,频率分析法,非线性*小二乘法,优化法等,可以进行多种膜厚测量。
        • 通过非线性*小二乘法的膜厚分析算法,可以进行光学常数分析(n:折射率,k:消光计数)。

        测量项目
        • **反射率测量
        • 膜厚分析(10层)
        • 光学常数分析(n:折射率,k:消光计数)

        测量目标
        • 功能膜,塑料
          透明导电膜(ITO,银纳米线),相位差膜,偏光膜,AR膜,PET,PEN,TAC,PP,PC,PE,PVA,胶粘剂,胶粘剂,保护膜,硬质大衣,防指纹等
        • 半导体
          化合物半导体,硅,氧化膜,氮化膜,抗蚀剂,SiC,GaAs,GaN,InP,InGaAs,SOI,蓝宝石等。
        • 表面处理
          DLC涂层,防锈剂,防雾剂等
        • 光学材料
          滤镜,增透膜等
        • FPD
          LCD(CF,ITO,LC,PI),OLED(有机膜,密封剂)等
        • 其他
          硬盘,磁带,建筑材料等
        产品留言
        标题
        联系人
        联系电话
        内容
        验证码
        点击换一张
        注:1.可以使用快捷键Alt+S或Ctrl+Enter发送信息!
        2.如有必要,请您留下您的详细联系方式!

        苏公网安备 32050502000409号