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产品详情
简单介绍:
产品信息实验・研究用曝光装置
简练设计的手动式整面单次曝光装置。
主要特长
对应玻璃、Wafer、胶片等基材的实验研究用手动整面单次曝光机。也适合小批量生产。
可选择接触曝光(软接触、硬接触)和近接曝光。
对应*大尺寸为500mm×500mm的基板。根据用途和基板尺寸,配置有*佳组合的光学系统。其中包括:超高压水银灯(500W、1kW、2kW、3.5kW)、各种光学镜、特殊镜头、聚光镜等。
详情介绍:
光刻机介绍
曝光装置 MA-1200 基板追大尺寸 200 x 200mm ø4″ ~ ø6″
光源 超高压水银灯 :500W or 1kW
曝光装置 MA-1400 基板追大尺寸400 x 400mm
光源 超高压水银灯 :2kW or 3.5kW
LED,LN曝光装置MA-4000 圆晶尺寸Ø2~4″或者Ø4~6″
光源 超高压汞灯:500W 或 1kW
Ø200mm/Ø150 mm 对应曝光装置MA-4301M 材料SI 玻璃, 对齐精度自动对齐:+/- 1 μm(
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Ø300mm对应曝光装置MA-5301ML 光源超高压汞灯:3.5kW Ø200mm规格也可对应
マスクレス露光装置MX-1201 曝光扫描速度43.94mm/s 有效曝光区域200 x 200 追大曝光量(※3)245/70/245+70
マスクレス露光装置MX-1201E 曝光扫描速度22.5mm/s 有效曝光区域200 x 200 追大曝光量(※3)460/70135
マスクレス露光装置MX-1205 曝光扫描速度9/4.5mm/s 有效曝光区域100 x 100 追大曝光量(※3)100/50
主要规格
MA-1200、MA-1400
MA-1200 | MA-1400 | ||
---|---|---|---|
基板尺寸 | 追大 200 x 200mm ø4″ ~ ø6″ | 追大 400 x 400mm | |
光源 | 超高压水银灯 :500W or 1kW | 超高压水银灯 :2kW or 3.5kW | |
外观尺寸及重量 | 本体尺寸 | W1240 x D1100 x H1725 mm | W1440 x D1590 x H1882 mm |
本体重量 | 400kg | 400kg(包含无尘机房) | |
光源重量 | - | 250kg | |
选购项 | 无尘机房、背面对位、硬接触(真空密着式)、自动对位、对应破碎基板等特殊尺寸(需商洽)。 |
※基板尺寸和水银灯瓦数及特殊规格可商洽
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