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产品名称：SAMCO液体源CVD设备 PD-200STL
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简单介绍：

PD-200STL 是一种高速等离子CVD设备，用于通过液体源形成氧化硅（SiO2）膜和氮化硅（SiN）膜。

详情介绍：

概述

PD-200STL 是一种高速等离子CVD设备，用于通过液体源形成氧化硅（SiO2）膜和氮化硅（SiN）膜。阴极侧护套电场产生的离子能量允许在低温下形成低应力厚膜。该装置具有负载锁室，可实现出色的可重复性沉积。

特点

良好的薄膜厚度均匀性和稳定性
高速沉积和应力控制
低温沉积（80°C~）
阶梯覆盖性优异的成膜
控制折射率（使用 Ge、P 和 B）

应用示例

SAW 器件的温度补偿膜、钝化膜
MEMS掩膜和氧化膜牺牲层
三维封装中TSV（Si贯通通孔）侧壁的绝缘膜

光波导芯层、包层形成

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产品名称：SAMCO液体源CVD设备 PD-200STL

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