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        产品详情
        • 产品名称:SAMCO ICP蚀刻装置 RIE-802iPC

        • 产品厂商:SAMCO
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        简单介绍:
        高密度等离子蚀刻装置,采用电感耦合等离子体(工业塑料广场)作为放电形式。 该装置具有两个反应室,提高了区域生产率,是一种具有出色工艺再现性和稳定性的正宗生产设备。
        详情介绍:

        概述

        高密度等离子蚀刻装置,采用电感耦合等离子体(工业塑料广场)作为放电形式。 该装置具有两个反应室,提高了区域生产率,是一种具有出色工艺再现性和稳定性的正宗生产设备。

        特点

        新型ICP源「HSTC™: Hyper Symmetrical Tornado Coil」

        高射频功率(2 kW 或更高)可高效、稳定地应用,以实现良好的均匀性。

        大流量排气系统

        通过采用与反应室直接相连的排气系统,实现了从小流量、低压区域到大流量、高压范围的各种工艺窗口。

        下部电极升降机构

        优化晶圆和等离子体之间的距离,确保良好的平面内均匀性。

        易于维护的设计

        TMP(涡轮分子泵)和高频电源单元化,便于更换。

        应用示例

        • 高精度加工化合物半导体,如 GaN、GaAs 和 InP

        ・高速加工SiC、SiO

        • 蚀刻难蚀刻材料,如铁电体(PZT、BST、SBT、BT)和电极材料(Pt、Au、Ru、Al)

        化合物半导体晶圆的等离子切割,薄型化

        选项

        难蚀刻材料用特殊电极机构

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