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产品详情
简单介绍：
高密度等离子蚀刻装置，采用电感耦合等离子体（工业塑料广场）作为放电形式。 无负载锁室的设备配置可实现低成本和节省空间，同时配备 2 个盒式磁带。
详情介绍：
概述
高密度等离子蚀刻装置，采用电感耦合等离子体（工业塑料广场）作为放电形式。 无负载锁室的设备配置可实现低成本和节省空间，同时配备 2 个盒式磁带。
特点
• 4“ 平面内均匀性：± 1% 或更少，蚀刻速率：1μm/min 或更高
500 张连续加工的批次间稳定性：±0.6%
• 追求节省空间和低成本的大气输送平台
真空夹头式输送手在大气中高速输送
应用示例
SiO+ 接触孔加工
等离子去污
光刻胶灰化
表面改性
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