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产品详情
简单介绍：
RIE-200C 是一种盒式设备，用于大规模生产，基于 RIE-10NR 的经验，该设备具有丰富的平行平板 RIE 设备交付记录。
详情介绍：
概述
RIE-200C 是一种盒式设备，用于大规模生产，基于 RIE-10NR 的经验，该设备具有丰富的平行平板 RIE 设备交付记录。 该器件可对各种硅薄膜（如 Si、Poly-Si、SiO+ 和 SiN）进行高精度蚀刻和灰化。 采用双盒式、双臂机器人，可实现高吞吐量，是PLC控制下全自动运行和过程参数保存的高性能装置。
特点
配备大气盒室
盒式设备废除了通常配备的负载锁室，并配备了大气盒室和大气输送机器人。 可自动处理高达 ±8 英寸的晶圆，并可安装 2 个盒式磁带。
全自动驾驶
操作通过触摸屏实现全自动运行 ，通过PLC控制可进行过程管理和数据记录。
应用示例
• 各种硅薄膜的高精度蚀刻，如 Si、Poly-Si、SiO+ 和 SiN
光刻胶灰化
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