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彩色滤光片光谱特性测量仪LCF系列Otsuka

非常适合FPD生产过程中的所有检测，如滤色片光学特性检测和玻璃基板膜厚检测。
非接触式光学深度计 Emios Otsuka大冢

“一步操作”是一种追求用户友好性的设备，无需任何繁重的工作，设置样品即可立即看到结果。该设备旨在缩短检测过程，无需校准曲线即可高精度、高分辨率地轻松找到优良厚度。由于使用了大冢电子开创的光学方法，因此可以在不接触的情况下高精度测量不透明、粗糙表面和容易变形的样品，同时节省空间。
超快光谱干涉式测厚仪Otsuka大冢

它以非接触方式测量晶片等的研磨和抛光过程，具有超高速、实时和高精度的晶片和树脂。
光谱椭偏仪 FE-5000 / 5000S Otsuka大冢

除了可实现高精度薄膜分析的光谱椭偏仪外，我们还通过实施自动可变测量机制支持所有类型的薄膜。除了传统的旋转光子检测器方法外，还通过为延迟板提供自动安装/拆卸机制来提高测量精度。
嵌入式膜厚监控器Otsuk大冢苏州售

实现具有波长依赖性的高精度多层膜测量
膜厚监测仪 FE-300 Otsuka大冢苏州售

它是一种紧凑、低成本的薄膜厚度计，它通过简单的操作实现了高精度光学干涉测量的薄膜厚度测量。我们采用一体式外壳，将必要的设备安装在主体中，实现了稳定的数据采集。通过以低廉的价格获得**反射率，可以分析光学常数。
显微光谱 OPTM Otsuka大冢苏州售

它是一种通过使用显微光谱测量微小区域内的优良反射率，实现高精度膜厚和光学常数分析的设备。可以以非破坏性和非接触的方式测量各种薄膜、晶片、光学材料和多层薄膜等镀膜的厚度。可进行1秒/点测量时间的高速测量。它还配备了软件，即使是初学者也可以轻松分析光学常数。
光谱辐射计 HS-1000Otsuka大冢苏州售

能够从低亮度到高亮度进行高速、高精度测量的光谱辐射亮度计。大冢电子独特的光谱光学设计和信号处理电路采用电子冷却线阵传感器，实现了在宽亮度范围和波长范围内的低噪声和高精度测量。
多通道光谱仪 MCPD-9800 / 6800Otsuka大冢

支持紫外到近红外区域的多功能多通道光谱检测器。光谱光谱可以在*少 5 ms 内测量。标准光纤可以在不指定样品类型的情况下支持各种测量系统。除了显微光谱、光源发射、透射/反射测量外，还可以通过结合软件支持物体颜色评估、膜厚测量等。
线上365bet注册_36524总部电话_365数字含义大冢低相位差高速检查设备

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OTSUKA大冢液晶层间隙量测设备

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线上365bet注册_36524总部电话_365数字含义 OTSUKA大冢相位差膜・光学材料检查设备

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NIR 量子效率测量系统 QE-5000 Otsuka大冢

可检测单线态氧（活性氧）
量子效率测量系统 QE-2000 / 2100 Otsuka大冢

可以立即测量优良量子效率（优良量子产率）。与粉末、溶液、固体（薄膜）和薄膜样品兼容。低杂散光多通道光谱检测器大大减少了紫外区的杂散光。此外，通过采用积分半球单元，可以实现明亮的光学系统，并通过利用这一点重新激发荧光校正，可以进行高精度的测量。此外，QE-2100 能够测量量子效率的温度依赖性，并支持从紫外到近红外的宽波长范围。
分子量测量系统ELSZneoOtsuka大冢

ELSZneo通过光散射评估物理特性　　　　进入新阶段]这是 ELSZ 系列的*高型号，可测量稀溶液至浓溶液中的 zeta 电位和粒径以及分子量。作为一项新功能，我们采用了多角度测量来提高粒度分布的分离能力。它还支持粒子浓度测量、微流变学测量和凝胶网络分析。新型 zeta 电位板单元具有新开发的高盐浓度涂层，可在生理盐水等高盐浓度环境中进行测量。我们还有一系列超痕量细胞单元，可以测量 3 μL 的粒径，扩展了生命科学领域的可能性。
Zeta电位分子量测量系统ELSZ-2000ZS大冢Otsuka

除了常规的zeta电位和粒度测量之外，它是一种可以用稀到浓溶液测量分子量的设备。支持粒度测量范围（0.6 nm 至 10 μm）和浓度范围（0.00001% 至 40%）。可以使用*小容量为 130 μL 或更大的一次性电池进行测量，通过实际测量电渗流，可以实现高精度的 zeta 电位测量。此外，通过在 0 至 90°C 的宽温度范围内自动进行温度梯度测量，可以进行变性/相变温度分析。